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Sistema de revestimento ultrassônico de bancada para altas temperaturas FS620H

O equipamento de pulverização ultrassônica de precisão em alta temperatura adota uma plataforma de aquecimento de alta precisão, com uma precisão de controle de temperatura de ± 0,1 ℃, e pode realizar configurações de temperatura em vários estágios.

    Descrição resumida

    O equipamento de pulverização ultrassônica de alta precisão e alta temperatura adota uma plataforma de aquecimento de alta precisão, com controle de temperatura preciso de ± 0,1 ℃, e permite ajustes em múltiplos níveis de temperatura. A temperatura de aquecimento pode atingir 500 ℃. Após o desligamento e religamento do equipamento, é possível optar por continuar com o programa anterior ao desligamento ou reiniciar o programa inicial.
    A máquina de pulverização ultrassônica de alta temperatura pode ser usada para pulverização de vidro ITO, sendo um equipamento avançado projetado para pulverizar materiais perovskitas em condições de alta temperatura, visando a preparação de revestimentos de alto desempenho. Essa tecnologia combina a pulverização ultrassônica com processos de pirólise. Utilizando a tecnologia ultrassônica, diferentes frequências de bicos ultrassônicos são selecionadas para determinar o tamanho das partículas, garantindo uniformidade e precisão na pulverização, otimizando e melhorando o desempenho do revestimento.

    Sistema de revestimento ultrassônico de bancada para alta temperatura FS620H (2)

    Parâmetros

    ● Frequência do bico de pulverização: 20-200 kHz (opcional)

    ● Tipo de bico: Widemist, Scattering, Focusmist, Penetrator, Micromist, Conemist etc (ou personalizado)

    ● Volume de pulverização contínua: 0,01-50 ml/min

    ● Espessura da película seca: 20 nm - 100 μm

    ● Uniformidade da pulverização: ≥95%

    ● Taxa de conversão da solução: ≥95%

    ● Área de pulverização: 300*300mm (máximo 400*400mm)

    ● Precisão do controle de temperatura de ± 0,1 ℃, com capacidade de ajuste de temperatura em vários estágios, podendo atingir temperaturas de aquecimento de até 500 ℃.

    ● Dimensões: 1100*850*950mm

    Vantagem

    • Alta taxa de utilização de materiais

      A pulverização por atomização ultrassônica pode atingir uma taxa de utilização várias vezes superior à da pulverização tradicional, reduzindo efetivamente os custos de material.

    • Espessura do filme em nanoescala

      A espessura mínima da película que pode ser preparada por pulverização por atomização ultrassônica pode atingir dezenas de nanômetros, com uniformidade altamente consistente.

    • Atomização sem pressão

      A atomização é gerada por meio de vibração ultrassônica de alta frequência, sem a necessidade de pressão atmosférica, evitando assim o impacto da alta pressão do ar sobre o substrato.

    Configuração do produto

    • Arranjo convencional

      1. Bocal ultrassônico personalizado FUNSONIC: 20-200 kHz

      2. Fonte de alimentação ultrassônica: Digital

      3. Sistema de fornecimento de solução: amostrador de grau biológico, precisão de fornecimento de líquido de 0,1 μL/min

      4. Sistema esportivo: Servomotor importado de três eixos XYZ

      5. Sistema Operacional: Sistema de controle de atomização, controle PLC e tela LCD

    • Configuração opcional

      1. Sistema de dispersão ultrassônica: Ao incorporar um transdutor ultrassônico de alta frequência de 40 kHz no injetor, diversas nano suspensões podem ser dispersas e transportadas de forma eficaz, reduzindo o fenômeno de sedimentação da solução pulverizada e melhorando significativamente a uniformidade da camada de filme.

      2. Plataforma de aquecimento de alta precisão: A precisão do controle de temperatura é de ± 0,1 ℃, e é possível configurar várias temperaturas. A temperatura de aquecimento pode atingir 500 ℃.

      3. Dispositivo de alinhamento de bico: Utilize o alinhamento a laser para alinhar rapidamente a posição de pulverização do material.

      Também podemos personalizar outras configurações de acordo com as suas necessidades.

    Sistema de revestimento ultrassônico de bancada para alta temperatura FS620H (2)
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    Sistema de revestimento ultrassônico de bancada para alta temperatura FS620H (6)
    Sistema de revestimento ultrassônico de bancada para alta temperatura FS620H (5)

    Aplicação do produto

    1. Células solares de perovskita

    Ao otimizar os parâmetros de pulverização, a eficiência de conversão de energia da bateria foi melhorada com sucesso, atingindo mais de 20%. A uniformidade e a estabilidade da película foram significativamente aprimoradas, prolongando a vida útil da bateria.

    2. Revestimento de vidro óptico

    Utiliza-se um pulverizador ultrassônico para aplicar revestimentos de perovskita em componentes ópticos, a fim de aumentar sua transparência e resistência ao desgaste. O equipamento controla a espessura e a uniformidade do revestimento em ambientes de alta temperatura, aumentando a transmitância de luz em 15%, ao mesmo tempo que melhora a resistência a riscos e reduz os custos de manutenção.

    3. Síntese de catalisadores

    Ajustando as condições de pulverização e pirólise, a estrutura do catalisador foi otimizada, a atividade catalítica foi melhorada e a eficiência da reação aumentou em 30%. O catalisador manteve a estabilidade em altas temperaturas e teve sua vida útil prolongada.

    4. Embalagem de dispositivos eletrônicos

    Empresas de alta tecnologia utilizam esta máquina de pulverização para aplicar uma camada protetora de perovskita na superfície de dispositivos eletrônicos, prevenindo oxidação e corrosão. A uniformidade e a adesão da camada protetora são significativamente aprimoradas, aumentando a resistência ambiental dos dispositivos eletrônicos. A confiabilidade geral e a vida útil do produto também são consideravelmente melhoradas.

    Sistema de revestimento por pulverização ultrassônica (1)
    Sistema de revestimento por pulverização ultrassônica (2)
    Sistema de revestimento por pulverização ultrassônica (3)
    Sistema de revestimento por pulverização ultrassônica (4)
    Sistema de revestimento por pulverização ultrassônica (5)
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